酸性蝕刻液的主要成份：CuCL2.2H2O, HCl,NaCl,NH4Cl,H2O
　　酸性氯化銅蝕刻過程的主要化學(xué)反應(yīng)在蝕刻過程中，氯銅中的Cu2+具有氧化性，能將板氧化成Cu1+ ,其反應(yīng)如下：
　　蝕刻反應(yīng)：Cu+CuCl2->Cu2Cl2
　　形成的Cu2Cl2是不易溶于水的在有過量的Cl-存在下，能形成可溶性的絡(luò)合離子，其反應(yīng)如下：
　　絡(luò)合反應(yīng)： Cu2Cl2 +4Cl- ->2[CuCl3]2-
　　隨著銅的蝕刻，溶液中的Cl1+越來越多，蝕刻能力很快就會下降，直到最后失去效能。為保持蝕刻能力，可以過溶液再生的方式將Cu1+重新轉(zhuǎn)換成CU2+.保證蝕刻能力。
　　蝕刻液的再生：
　　再生的原理主要是利用氧化劑將溶液中的Cu1+ 氧化成Cu2+。
　　再生方法一般有以下幾種：
　　1）通氧氣或壓縮空氣再生
　　主要的再生反應(yīng)為：2Cu2Cl2+4HCl+O2 ->4CuCl2+2H2O
　　但此方法再生反應(yīng)速率很低。
　　2）電解再生
　　主要的再生反應(yīng)為：在直流電的作用下，在陽極：Cu1+ ->Cu2+ +e
　　在陰極：Cu1+ +e->Cu0這種方法的優(yōu)點是可以直接回收多余的銅，同時又使Cu1+氧
　　化成Cu2+，使蝕刻液得到再生。但是此方法的再生設(shè)備投入較大且要消耗較多的電能。
　　htyue2905網(wǎng)友補充：
　　現(xiàn)在的酸性蝕刻有兩種：雙氧水系統(tǒng)和 氯酸鈉系統(tǒng)，二者的區(qū)別在于是由那種物質(zhì)充當(dāng)氧化劑。
　　前者是氧，后者是氯。所以在控制上有一定區(qū)別。
　　3）氯氣再生
　　主要的再生反應(yīng)為：Cu2Cl2+Cl2 ->2CuCl2由于氯氣是強氧化劑，直接通
　　氯氣是再生的最好方法。因為它的成本低，再生速率快。但是，很難做到使氯氣全部都參加反應(yīng)，如有氯氣溢出，會污染環(huán)境。故該法要求蝕刻

上一篇：高速PCB設(shè)計的基本概念及其技術(shù)要點
下一篇印刷電路板的圖像分割理論
溫馨提示：
凡在本公司進行電路板克隆業(yè)務(wù)的客戶，必須有合法的PCB設(shè)計版權(quán)來源聲明，以保護原創(chuàng)PCB設(shè)計版權(quán)所有者的合法權(quán)益；