圖像轉(zhuǎn)移有兩種方法,一種是網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移,一種是光化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移。
網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移比光化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移成本低,在生產(chǎn)批量大的情況下更是如此,但是網(wǎng)印抗蝕印料通常只能制造大于或等于o.25mm的印制導(dǎo)線(xiàn),而光化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移所用的光致抗蝕劑朗制造分辨率高的清晰圖像。
本章所述內(nèi)容為后一種方法。光化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移需要使用光致抗蝕劑,下面介紹有關(guān)光致抗蝕劑的一些基本知識(shí):
1)增塑劑
可增加干膜抗蝕劑的均勻性和柔韌性。三乙二醇雙醋酸脂可作為增塑劑。
2)增粘劑
可增加干膜光致抗蝕劑與銅表面的化學(xué)結(jié)合力,防止因粘結(jié)不牢引起膠膜起翹、滲鍍等弊 病。常用的增粘劑如苯并三氮唑。
3)熱阻聚劑
在干膜的生產(chǎn)及應(yīng)用過(guò)程中,很多步驟需要接受熱能,為阻止熱能對(duì)干膜的聚合作用加入 熱阻聚劑。如甲氧基酚、對(duì)苯二酚等均可作為熱阻聚劑。
4)色料
為使干膜呈現(xiàn)鮮艷的顏色,便于修版和檢查而添加色料。如加入孔雀石綠、蘇丹三等色料 使干膜呈現(xiàn)鮮艷的綠色、蘭色等。
5)溶劑
為溶解上述各組份必須使用溶劑。通常采用丙酮、酒精作溶劑。 此外有些種類(lèi)的干膜還加入光致變色劑,使之在曝光后增色或減色,以鑒別是否曝光,這 種干膜又叫變色于膜。
干膜光致抗蝕劑的結(jié)構(gòu)
干膜光致抗蝕劑由聚酯薄膜,光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成:
1、聚酯薄膜是支撐感光膠層的載體,使之涂布成膜,厚度通常為25μm左右。聚酯薄膜在曝 光之后顯影之前除去,防止曝光時(shí)氧氣向抗蝕劑層擴(kuò)散,破壞游離基,引起感光度下降。
2、聚乙烯膜是復(fù)蓋在感光膠層上的保護(hù)膜,防止灰塵等污物粘污干膜,避免在卷膜時(shí),每層 抗蝕劑膜之間相互粘連。聚乙烯膜一般厚度為25μm左右。
3、光致抗蝕劑膜為干膜的主體,多為負(fù)性感光材料,其厚度視其用途不同,有若干種規(guī)格,最薄的可以是十幾個(gè)微米,最厚的可達(dá)100μm。
干膜光致抗蝕劑的制作是先把預(yù)先配制好的感光膠在高清潔度的條件下,在高精度的涂 布機(jī)上涂覆于聚酯薄膜上,經(jīng)烘道干燥并冷卻后,覆上聚乙烯保護(hù)膜,卷繞在一個(gè)輥芯上。
上一篇:PCB選擇性焊接技術(shù)
下一篇PCB電路板表面處理工藝
溫馨提示:
凡在本公司進(jìn)行電路板克隆業(yè)務(wù)的客戶(hù),必須有合法的PCB設(shè)計(jì)版權(quán)來(lái)源聲明,以保護(hù)原創(chuàng)PCB設(shè)計(jì)版權(quán)所有者的合法權(quán)益;